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请求人委托：

	一种HDI板激光钻孔偏移检查方法
	决定号： 103094	决定日： 2015年12月11日
	申请号： 201210073889.7 展开申请日： 2012年03月20日申请人：昆山鼎鑫电子有限公司国际分类号：G01B5/02
	请求人：昆山鼎鑫电子有限公司
	决定结论：维持原决定	法律依据：专利法第22条第3款
	请求人委托代理机构：上海思微知识产权代理事务所（普通合伙）	请求人委托代理师：郑玮
	专利权人委托代理机构：	专利权人委托代理师：

	减小半导体器件热载流子注入损伤的制造方法
	决定号： 102403	决定日： 2015年12月07日
	申请号： 201110266524.1 展开申请日： 2011年09月08日申请人：上海华力微电子有限公司国际分类号：H01L21/8238
	请求人：上海华力微电子有限公司
	决定结论：维持原决定	法律依据：专利法第22条第3款
	请求人委托代理机构：上海思微知识产权代理事务所（普通合伙）	请求人委托代理师：郑玮
	专利权人委托代理机构：	专利权人委托代理师：

	图形化衬底的制作方法
	决定号： 100840	决定日： 2015年11月06日
	申请号： 201110455873.8 展开申请日： 2011年12月29日申请人：映瑞光电科技（上海）有限公司国际分类号：H01L21/027；H01L21/311
	请求人：映瑞光电科技（上海）有限公司
	决定结论：维持原决定	法律依据：专利法第22条第3款
	请求人委托代理机构：上海思微知识产权代理事务所（普通合伙）	请求人委托代理师：郑玮
	专利权人委托代理机构：	专利权人委托代理师：

	麦克风前置放大电路
	决定号： 100790	决定日： 2015年10月26日
	申请号： 201110395992.9 展开申请日： 2011年12月02日申请人：杭州硅星科技有限公司国际分类号：H04R3/00
	请求人：杭州硅星科技有限公司
	决定结论：维持原决定	法律依据：专利法第22条第3款
	请求人委托代理机构：上海思微知识产权代理事务所（普通合伙）	请求人委托代理师：许晓琳
	专利权人委托代理机构：	专利权人委托代理师：

	铜互连层的制造方法
	决定号： 99054	决定日： 2015年10月10日
	申请号： 201110457446.3 展开申请日： 2011年12月31日申请人：中芯国际集成电路制造（上海）有限公司国际分类号：H01L21/768
	请求人：中芯国际集成电路制造（上海）有限公司
	决定结论：维持原决定	法律依据：专利法第22条第3款
	请求人委托代理机构：上海思微知识产权代理事务所（普通合伙）	请求人委托代理师：屈蘅
	专利权人委托代理机构：	专利权人委托代理师：

	一种研磨垫修整器及研磨垫修整方法
	决定号： 98736	决定日： 2015年09月25日
	申请号： 201010573612.1 展开申请日： 2010年12月03日申请人：中芯国际集成电路制造(北京)有限公司；中芯国际集成电路制造（上海）有限公司国际分类号：B24B53/12（2006.01)
	请求人：中芯国际集成电路制造(北京)有限公司；中芯国际集成电路制造（上海）有限公司
	决定结论：维持原决定	法律依据：专利法第22条第3款
	请求人委托代理机构：上海思微知识产权代理事务所（普通合伙）	请求人委托代理师：郑玮
	专利权人委托代理机构：	专利权人委托代理师：

	半导体器件的制造方法
	决定号： 95206	决定日： 2015年08月17日
	申请号： 201010573625.9 展开申请日： 2010年12月03日申请人：中芯国际集成电路制造(北京)有限公司；中芯国际集成电路制造(上海)有限公司国际分类号：H01L21/768
	请求人：中芯国际集成电路制造(北京)有限公司；中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
	决定结论：维持原决定	法律依据：专利法第22条第3款
	请求人委托代理机构：上海思微知识产权代理事务所（普通合伙）	请求人委托代理师：郑玮
	专利权人委托代理机构：	专利权人委托代理师：

	聚四氟乙烯制品生产设备
	决定号： 93531	决定日： 2015年07月15日
	申请号： 201010521423.X 展开申请日： 2010年10月27日申请人：上海长园电子材料有限公司；深圳长园电子材料有限公司国际分类号：B29C47/00(2006.01)；B29C47/08(2006.01)；B29C47/78(2006.01)
	请求人：上海长园电子材料有限公司；深圳长园电子材料有限公司
	决定结论：维持原决定	法律依据：专利法第22条第3款
	请求人委托代理机构：上海思微知识产权代理事务所（普通合伙）	请求人委托代理师：郑玮
	专利权人委托代理机构：	专利权人委托代理师：

	一种SiCN扩散阻挡层制备工艺
	决定号： 87122	决定日： 2015年04月21日
	申请号： 201010285729.X 展开申请日： 2010年09月17日申请人：中芯国际集成电路制造（北京）有限公司；中芯国际集成电路制造（上海）有限公司国际分类号：H01L21/314
	请求人：中芯国际集成电路制造（北京）有限公司；中芯国际集成电路制造（上海）有限公司
	决定结论：维持原决定	法律依据：专利法第22条第3款
	请求人委托代理机构：上海思微知识产权代理事务所（普通合伙）	请求人委托代理师：屈蘅
	专利权人委托代理机构：	专利权人委托代理师：

	半导体器件制作方法
	决定号： 83054	决定日： 2015年02月06日
	申请号： 201110335723.3 展开申请日： 2011年10月29日申请人：上海华力微电子有限公司国际分类号：H01L21/768；H01L21/321
	请求人：上海华力微电子有限公司
	决定结论：维持原决定	法律依据：专利法第22条第3款
	请求人委托代理机构：上海思微知识产权代理事务所（普通合伙）	请求人委托代理师：郑玮
	专利权人委托代理机构：	专利权人委托代理师：