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接触形成方法、半导体装置的制造方法和半导体装置
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决定号:
88023
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决定日:
2015年04月21日
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申请号:
200980142901.1
展开
申请日: 2009年10月23日
申请人:国立大学法人东北大学;财团法人国际科学振兴财团
国际分类号:H01L21/28;H01L21/336;H01L21/8238;H01L27/092;H01L29/78;H01L29/786
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请求人:
国立大学法人东北大学;财团法人国际科学振兴财团
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决定结论:
撤销原决定
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法律依据:
专利法第22条第3款
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请求人委托代理机构:
中科专利商标代理有限责任公司
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请求人委托代理师:
张远
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专利权人委托代理机构:
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专利权人委托代理师:
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