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使用通过光交联固化形成的抗蚀剂下层膜的半导体装置的制造方法
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决定号:
78706
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决定日:
2014年12月04日
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申请号:
200780037165.4
展开
申请日: 2007年10月10日
申请人:日产化学工业株式会社
国际分类号:G03F7/11;G03F7/40;C08F220/10;H01L21/027;C08F220/26
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请求人:
日产化学工业株式会社
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决定结论:
维持原决定
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法律依据:
专利法第22条第3款
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请求人委托代理机构:
北京市中咨律师事务所
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请求人委托代理师:
段承恩
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专利权人委托代理机构:
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专利权人委托代理师:
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